F11600 - SEMI F116 - Guide for Drain Segregation for Semiconductor Manufacturing Tools to Support Site Water Reuse Revision:SEMI F116-0821 - Current 本安全ガイドラインは，複数企業同時作業エリアや，あるエリアでの一つの会社の従業員の作業が，隣接するエリアで作業する別の会社の従業員にとって危険要因（ハザード）となりうる場合においてユーザの協力のもとに安全パトロールを実施する方法についての基準を定める。

本安全ガイドラインは，複数企業同時作業エリアや，あるエリアでの一つの会社の従業員の作業が，隣接するエリアで作業する別の会社の従業員にとって危険要因（ハザード）となりうる場合においてユーザの協力のもとに安全パトロールを実施する方法についての基準を定める。

and installation of equipment

SEMI G56-93 (Reapproved 0811)

This Specification provides requirements for reclaimed wafers intended for use in advanced device production

本安全基準之目的係在從供應至排除設定易燃性矽化合物貯存、處理及使用之最低安全與衛生標準。

F11600 - SEMI F116 - Guide for Drain Segregation for Semiconductor Manufacturing Tools to Support Site Water Reuse Revision:SEMI F116-0821 - Current 本安全ガイドラインは，複数企業同時作業エリアや，あるエリアでの一つの会社の従業員の作業が，隣接するエリアで作業する別の会社の従業員にとって危険要因（ハザード）となりうる場合においてユーザの協力のもとに安全パトロールを実施する方法についての基準を定める。This Guide provides definitions and recommendations for design of drain segregation to enable water reuse in a semiconductor manufacturing facility. It is intended to establish a common basis for developing design specifications and decisions concerning planning and design of water reuse systems. This Guide also includes implications for the water reclamation and reuse systems configurations. This Guide is recommended to be used by semiconductor