[+/- May Contain: CI 77499
Для більшої стійкості рекомендується закріпити результат пудрою
Oryza Sativa Starch
Маски RARE Paris зі зручною викройкою із біорозкладної целюлози та пасують абсолютно до будь-якої форми обличчя
м'якість і легкість укладання
Пінка для душу The Ritual of Sakura, Rituals Needly-4 [+/- May Contain: CI 77499The Ritual of Sakura , . , . , . , . . : Aqua Water, Sodium Laureth Sulfate, Cocamidopropyl Betaine, Isopentane, Sorbitol, PEG 120 Methyl Glucose Dioleate, Isopropyl Palmitate, Parfum Fragrance, Isobutane, Oryza Sativa (Rice) Extract, Prunus Cerasus (Bitter Cherry) Extract, Sodium Benzoate, Citric Acid, PEG 40 Hydrogenated Castor Oil, Butylene Glycol, Glycerin, Guar Hydroxypropyltrimonium Chloride, Potassium Sorbate, Sorbic Acid, Hexyl Cinnamal,